特許
J-GLOBAL ID：200903054175478319
低次酸化チタン含有顔料及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-271679
公開番号（公開出願番号）：特開平8-109339
出願日： 1994年10月11日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：
【要約】【構成】 低次酸化チタンと共に、酸化珪素が存在することを特徴とする低次酸化チタン含有顔料。 二酸化チタンと共に、還元剤として珪素を共存させ、低酸素濃度雰囲気下で還元焼成することを特徴とする低次酸化チタン含有顔料の製造方法。【効果】 効率よく、しかも還元剤と粉末との溶融による凝集を生じることなく、低次酸化チタン含有顔料を製造することができる。
請求項（抜粋）：
低次酸化チタンと共に、酸化珪素が存在することを特徴とする低次酸化チタン含有顔料。
IPC (2件)：
C09C 1/36 PAV
, C09C 1/36 PAW
