特許

J-GLOBAL ID：200903054179610548

電子ビーム装置

発明者： 伊藤 昭夫 ,  中沢 和広 ,  安部 貴之
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 大菅 義之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-306785
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161329
出願日： 1993年12月07日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 電子ビーム装置の2次電子エネルギー分析器に関し、磁界分布の狭い対物レンズの場合でも2次電子のコリメート制御を容易にし、低引き出し電圧時でも電圧測定精度の向上を可能にする。【構成】 電子ビームを試料面Sに収束して照射する対物レンズの内部に、照射点から放出される2次電子のエネルギーを平面状分析メッシュ電極35で分析する2次電子エネルギー分析器22を備える。2次電子エネルギー分析器は、不均一な電界分布による1つ又は複数の静電レンズを形成し、2次電子流をコリメートして分析メッシュ電極35に入射させるコリメート手段を有する。コリメート手段は試料面と分析メッシュ電極との間に試料面側から順に配置された、第1、第2、第3の少なくとも3つの円筒状電極31、32、33を有し、各円筒状電極には外部の電圧供給手段40により適宜電圧を印加する。

請求項（抜粋）：

電子ビームを試料面に収束して照射する対物レンズの内部に、前記試料面の電子ビーム照射点から放出される2次電子のエネルギーを、平面状の分析メッシュ電極(35)で形成される減速電界により分析する2次電子エネルギー分析器(22)を備えた電子ビーム装置において、前記2次電子エネルギー分析器(22)は、不均一な電界分布による1つ又は2つ以上の静電レンズを形成し該静電レンズにより前記2次電子流をコリメートして前記分析メッシュ電極(35)に入射させるコリメート手段を有することを特徴とする電子ビーム装置。

IPC (3件)：

H01J 37/244 ,  H01J 37/10 ,  H01J 37/21