特許
J-GLOBAL ID：200903054183588174
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤島 洋一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-149897
公開番号（公開出願番号）：特開平11-345404
出願日： 1998年05月29日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：
【要約】【課題】 書き込み用の誘導型磁気変換素子を有する薄膜磁気ヘッドにおいて、コイル束幅の縮小による磁路長の短縮化によって各種特性を改善すると共に、製造工程でのボイド発生を抑制して経時変化によるコイル断線を防止する。【解決手段】 第1のコイル12aの巻線体間領域である螺旋状溝の内面に絶縁層13およびシード層31を順次積層して形成すると共に、螺旋状溝の側面部分のシード層31のみを覆うようにして絶縁膜側壁32aを形成し、螺旋状溝の底部のシード層31からめっき成長を行わせて第2のコイル14aを形成する。絶縁膜側壁32aは、螺旋状溝の側面部分のシード層31からのめっき成長を阻止する。シード層31および絶縁膜側壁32aによって覆われた螺旋状溝の内部に第2のコイル14aが埋め込まれるようにして形成される。
請求項（抜粋）：
磁気的に連結され、かつ記録媒体に対向する側の一部がギャップ層を介して対向する2つの磁極を含む少なくとも2つの磁性層と、この少なくとも2つの磁性層あるいはこれらに連結された他の磁性層の間に配設された薄膜コイル部とを有する薄膜磁気ヘッドであって、前記薄膜コイル部が、螺旋状に形成された第1の薄膜コイルと、前記第1の薄膜コイルの巻線体間領域である螺旋状溝の少なくとも底面および側面を覆うように形成された絶縁膜と、この絶縁膜により覆われた前記螺旋状溝の少なくとも底面および側面を覆うように形成された導電膜と、前記導電膜のうち、前記螺旋状溝の側面部分の導電膜のみを覆うように形成された絶縁膜側壁と、前記導電膜および絶縁膜側壁によって覆われた螺旋状溝の少なくとも内部を埋め込むようにして形成された第2の薄膜コイルとを含んで構成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G11B 5/31 F
, G11B 5/31 K
, G11B 5/39
