薄膜形成方法及び装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：北條和由
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-179978
公開番号（公開出願番号）：特開平7-014771
出願日： 1993年06月26日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】複数種類の原料を使用するに当り、安定した薄膜の形成を可能とし、所定の特性の薄膜を容易に得る。【構成】 2種類の原料溶液が各々原料容器21a、21bに収納され、これら原料容器21a、21bの底に設けた超音波振動子22a、22bにより各々の原料容器21a、21b内で原料溶液が別の溶液として個別に霧化される。キャリアガスにより、原料容器21a、21b内に発生した霧が成膜室16の霧導入口25a、25bに各々に送り出される。成膜室16に導入された霧は、成膜室16内を下降し、基体17の表面に接触し、そこに薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

原料溶液を霧化し、それを加熱した基体表面に供給し、同基体の表面に薄膜を形成する方法において、複数種の原料を別の溶液として個別に霧化し、これらの原料を霧の状態を保ったまま互いに分散させ、被成膜基体表面に供給することを特徴とする薄膜形成方法。

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