光受容部材の形成方法、該方法による光受容部材、堆積膜の形成装置及び該装置のクリーニング方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-262213
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242624
出願日： 1993年10月20日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：

【要約】【目的】電子写真用に好適な、帯電能及び画像流れが良好で、白ポチ、ゴースト、黒スジ、感度等の画像特性の改善された、耐久性、耐環境性、高速性に優れる光受容部材の形成方法、該方法による光受容部材、該部材用堆積膜形成装置、並びに該装置の清浄化法を提供する。【構成】特定の電磁波(20〜450MHz)を用いて原料ガスを分解するPCVD法により、基体上に非単結晶材料からなる特定の光導電層、阻止層、表面層、電荷発生層、電荷輸送層等の複数を連続的に積層形成し、各層の界面部分を改質することにより、再現性よく目的とする電子写真特性に優れる光受容部材等が提供される。

請求項（抜粋）：

基体上に非単結晶材料で構成された阻止層と光導電層とを有する光受容部材の形成方法において、前記阻止層が、シリコン原子を母体として、少なくとも炭素原子、酸素原子、窒素原子から選択された原子を含有する非単結晶材料で構成され、前記阻止層と光導電層が、原料ガスに周波数20〜450MHzの電磁波を与えて発生する前記原料ガスのグロー放電分解を用いたプラズマCVD法によって形成されてなることを特徴とする光受容部材の形成方法。

IPC (3件)：

G03G 5/08 360 , G03G 5/08 331 , C23C 16/00

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開平4-218060
特開昭61-026053
特開平4-100215

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