特許
J-GLOBAL ID:200903054190291187
スタンパの製造方法及び原盤露光装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川北 喜十郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-205657
公開番号(公開出願番号):特開2003-022585
出願日: 2001年07月06日
公開日(公表日): 2003年01月24日
要約:
【要約】【課題】 微細パターンが形成されたスタンパに新たなパターンを形成する。【解決手段】 凹凸パターン2が形成された原盤1から電鋳によりスタンパ3を作製する。スタンパ3の微細パターン4が形成されている面上にレジスト5を塗布する。レジスト5にレーザ光6を照射してレジスト5を所定のパターンで露光する。現像により、露光されたレジストを除去する。未露光のレジストをマスク15として用いてエッチングを行う。これにより、露出したスタンパ表面が所定のパターンでエッチングされる。エッチング後、スタンパ上の残留レジストを除去することにより微細パターン4と、追加工された所定パターン9を表面に備えるスタンパを得る。
請求項(抜粋):
凹凸パターンを有するスタンパの製造方法であって、上記凹凸パターンは第1凹凸パターンと第2凹凸パターンとからなり、第1凹凸パターンと逆の凹凸パターンを有する原盤を作製する原盤作製工程と、上記原盤作製工程により作製された原盤から電鋳により第1凹凸パターンを有するスタンパを作製するスタンパ作製工程と、上記スタンパ作製工程により作製されたスタンパに第2凹凸パターンを追加工により形成する追加工工程とを含むことを特徴とする製造方法。
IPC (4件):
G11B 7/26 511
, G11B 7/26 501
, B29C 33/38
, G11B 7/24 561
FI (4件):
G11B 7/26 511
, G11B 7/26 501
, B29C 33/38
, G11B 7/24 561 C
Fターム (19件):
4F202AJ01
, 4F202CA11
, 4F202CB01
, 4F202CD12
, 4F202CD24
, 5D029WB11
, 5D029WB17
, 5D121AA11
, 5D121BA01
, 5D121BB21
, 5D121BB38
, 5D121BB40
, 5D121CA03
, 5D121CA05
, 5D121CB03
, 5D121CB05
, 5D121CB08
, 5D121DD06
, 5D121GG04
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