特許
J-GLOBAL ID：200903054192128313
撥水性光触媒および排ガス処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-165741
公開番号（公開出願番号）：特開平6-000385
出願日： 1992年06月24日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：
【要約】【構成】光半導体の表面に撥水性を付与した光触媒3およびそれを支持した光触媒構造体。光触媒および光触媒構造体を用いた亜硫酸ガス,一酸化窒素,亜硫酸塩,亜硝酸塩の吸収または酸化反応器および生成物の回収を含む処理装置。【効果】無尽蔵のクリーンな太陽光エネルギを利用し、一酸化窒素および亜硫酸ガスを酸化吸収し、硫酸塩および硝酸塩として回収できるので、従来の方式に比べてプロセスが簡単になり、運転費が低減される。
請求項（抜粋）：
光半導体の表面に撥水性を付与したことを特徴とする光触媒。
IPC (3件)：
B01J 35/02
, B01D 53/36
, B01D 53/36 101
