特許
J-GLOBAL ID:200903054196129047

太陽電池用絶縁基板及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-358530
公開番号(公開出願番号):特開2000-183376
出願日: 1998年12月17日
公開日(公表日): 2000年06月30日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 太陽電池用基板の絶縁層として有効な酸化物層をゾルーゲル法で金属板表面に形成する。【解決手段】 この太陽電池用基板は、基材としての金属板1の表面にゾルーゲル法による厚み0.5〜10μmの絶縁層2が形成されている。無機粉末は粒径0.2〜2.0μm、絶縁層に対する濃度が25〜75mass%で、可視光反射率70%以上の無機粉末であれば光電変換効率が向上する。アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン、アルミニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のアルコキシドの1種類又は2種以上と、水及び増粘剤を有機溶媒に溶解させ、無機粉末を分散させた溶液に金属板を接触させ、金属板の表面に付着した溶液を乾燥・焼成し、金属板の表面に絶縁層を形成することにより製造される。
請求項(抜粋):
金属板を基材とし、金属アルコキシドを主成分とする浴を用いたゾルーゲル法による絶縁層が前記基板の表面に形成され、粒径が0.2〜2.0μmの絶縁性無機粉末を25〜75mass%の割合で前記絶縁層に分散することで、絶縁信頼性および光電変換効率を向上した太陽電池用絶縁基板。
Fターム (7件):
5F051AA05 ,  5F051CA15 ,  5F051FA02 ,  5F051FA03 ,  5F051GA03 ,  5F051GA16 ,  5F051GA20

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