特許
J-GLOBAL ID：200903054196281876

パターン形成用の光触媒含有膜およびその製造方法

発明者：
小林 弘典

小林 弘典 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 米田 潤三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-345306
公開番号（公開出願番号）：特開2000-169189
出願日： 1998年12月04日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：
【要約】【課題】 高精細で欠陥のないパターン形成を可能とする高感度の光触媒含有膜と、この光触媒含有膜を高い効率で製造するための製造方法を提供する。【解決手段】 パターン形成用の光触媒含有膜を、金属酸化物からなる光触媒とフルオロアルキル基を有するオルガノポリシロキサンとを少なくとも含有するものとし、光触媒の金属元素Mに対するフルオロアルキル基のフッ素Fの比F/Mの値Rにおいて、表面から100Åの深さまでの領域における比F/Mの値R1と、膜全体における比F/Mの値R2との比R1/R2を20〜200の範囲とし、このような光触媒含有膜は、金属酸化物からなる光触媒の水分散液と、フルオロアルキル基含有シラン化合物の加水分解物溶液と、アルコキシシラン化合物の加水分解物溶液とを混合して塗布液とし、この塗布液を基材上に塗布して製造する。
請求項（抜粋）：
金属酸化物からなる光触媒とフルオロアルキル基を有するオルガノポリシロキサンとを少なくとも含有し、前記光触媒の金属元素Mに対する前記フルオロアルキル基のフッ素Fの比F/Mの値をRとしたときに、表面から100Åの深さまでの領域における比F/Mの値R1と、膜全体における比F/Mの値R2との比R1/R2が20〜200の範囲にあることを特徴とするパターン形成用の光触媒含有膜。
IPC (3件)：
C03C 17/28 ,  B01J 35/02 ,  G02B 5/20 101
FI (3件)：
C03C 17/28 A ,  B01J 35/02 J ,  G02B 5/20 101
Fターム (53件)：
2H048BA58 ,  2H048BA60 ,  2H048BB02 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42 ,  4G059AA06 ,  4G059AA08 ,  4G059AC21 ,  4G059AC22 ,  4G059FA05 ,  4G059FA22 ,  4G059FB06 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA12 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA14A ,  4G069BA14B ,  4G069BA22A ,  4G069BA22B ,  4G069BA22C ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BE32A ,  4G069BE32B ,  4G069BE32C ,  4G069BE34A ,  4G069BE34B ,  4G069BE34C ,  4G069CD10 ,  4G069EA08 ,  4G069EB15X ,  4G069EB15Y ,  4G069EB18Y ,  4G069EB19 ,  4G069EC22Y ,  4G069EC29 ,  4G069ED01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB06 ,  4G069FB08 ,  4G069FB23 ,  4G069FC02 ,  4G069FC08
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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