特許

J-GLOBAL ID：200903054218894753

プラズマ処理装置

発明者： 高尾 和久
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-356106
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176852
出願日： 1999年12月15日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】 処理室内にアルミニウム粒子がコンタミネーションとして発生し、シリコンウエーハなどの基板の表面に付着することを抑制する。【解決手段】 アルミニウム合金にて構成した処理室1の表面をガラス体18,19,20で被覆し、処理室1内にアルミニウム粒子がコンタミネーションとして発生する量を抑制した。

請求項（抜粋）：

反応ガスが供給されるプラズマ発生室と、被処理物がステージ上にセットされる処理室とを備え、プラズマ発生室で発生したプラズマを多数の孔を形成した多孔板を介して処理室に導入するようにしたプラズマ処理装置において、前記処理室をアルミニウムで形成するとともにその内壁をガラス体で被覆したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/08 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

B01J 19/00 H ,  B01J 19/08 E ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B

Fターム (23件)：

4G075AA30 ,  4G075BB03 ,  4G075BC06 ,  4G075BD26 ,  4G075CA47 ,  4G075EB44 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4K057DA20 ,  4K057DB06 ,  4K057DB20 ,  4K057DD05 ,  4K057DD09 ,  4K057DE01 ,  4K057DE20 ,  4K057DN01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB30 ,  5F004DA04 ,  5F004DA26 ,  5F004DB01