特許
J-GLOBAL ID：200903054218999997
画面合成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-150465
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326744
出願日： 1997年05月23日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 相隣り合う分割領域に所定の重複量を設けて接合部におけるパターンの乱れを押える。【解決手段】 パターンの線幅d毎に露光部1と未露光部2を設け、領域Aの露光境界3と領域Bの露光境界4の間に、幅δでパターン接合部分の重複部5を設ける。ここで、パターンの線幅dに拘わらず重複量を限界解像度Dの1/2とし、接合部の二重露光領域で露光量を略一定にして二重露光による影響を回避する。
請求項（抜粋）：
マスク上に描画したパターンを基板上に転写する露光装置の露光領域に収まらない大きさの素子を作製する際に、該素子を1回で露光可能な複数の領域に分割してそれぞれの露光を行う画面合成方法において、前記複数の領域へ分割する時の前記露光装置の限界解像度をDとした場合に、相隣り合う領域がD/4≦δ≦3D/4で定義される重複量δを有するように重複させて分割することを特徴とする画面合成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 514 A
, G03F 7/22 H
