特許

J-GLOBAL ID：200903054221817859

フォトニックバンドギャップ光ファイバ

発明者： 樽 稔樹
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (5件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  黒木 義樹 ,  近藤 伊知良 ,  柴田 昌聰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-030948
公開番号（公開出願番号）：特開2009-209039
出願日： 2009年02月13日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：

【課題】光ファイバの損失を低減すると共にバンドギャップエッジの波長の変化を抑制することができるフォトニックバンドギャップ光ファイバの製造方法を提供する。【解決手段】フォトニックバンドギャップ光ファイバの製造方法は、第1屈折率の中央領域と第2屈折率の周辺領域とを有する複数の複合ロッドを準備するステップと、複数の複合ロッドのそれぞれの表面を選択的にエッチングして、複数の複合ロッドのそれぞれにおいて第1直径を有する部分と第1直径より大きな第2直径を有する部分とを形成するステップS502と、コアロッドの周囲にエッチングされた複数の複合ロッドを積み重ねてロッド積層体を形成するステップS504と、ロッド積層体をジャケットチューブ内に挿入して集成体を形成するステップS508と、ジャケットチューブとロッド積層体とを細くしてファイバに変化させるステップS516を備える。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

第1屈折率の中央領域と第2屈折率の周辺領域とを有する複数の複合ロッドを準備するステップと、 前記複数の複合ロッドのそれぞれの表面を選択的にエッチングして、前記複数の複合ロッドのそれぞれにおいて第1直径を有する部分と前記第1直径より大きな第2直径を有する部分とを形成するステップと、 コアロッドの周囲にエッチングされた前記複数の複合ロッドを積み重ねてロッド積層体を形成するステップと、 前記ロッド積層体をジャケットチューブ内に挿入して集成体を形成するステップと、 前記ジャケットチューブと前記ロッド積層体とを細くしてファイバに変化させるステップと、 を備えるフォトニックバンドギャップ光ファイバの製造方法。

IPC (3件)：

C03B 37/012 ,  G02B 6/00 ,  G02B 6/032

FI (3件)：

C03B37/012 B ,  G02B6/00 376Z ,  G02B6/20 Z

Fターム (11件)：

2H150AB05 ,  2H150AB07 ,  2H150AB08 ,  2H150AB10 ,  2H150AF04 ,  2H150AF12 ,  2H150AF23 ,  2H150AF30 ,  2H150AF36 ,  2H150AF52 ,  4G021BA12