特許

J-GLOBAL ID：200903054224603850

レジストのベースポリマーの精製方法

発明者： 濱田 吉隆 ,  畠山 潤
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-383206
公開番号（公開出願番号）：特開2002-182402
出願日： 2000年12月18日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【課題】 レジストのベースポリマー中の金属不純物を効率よく低減させて精製する方法。【解決手段】 レジストのベースポリマーまたはその非極性有機溶媒あるいは非極性有機溶媒と極性有機溶媒との混合溶媒の溶液に、レジストのベースポリマー中の金属不純物の当量以上の、水溶性で、錯形成能力のある化合物を添加し、反応を完了させた後、更に、純水で洗浄することにより、レジストのベースポリマー中の金属不純物を低減させるレジストのベースポリマーの精製方法。

請求項（抜粋）：

レジストのベースポリマーまたはその非極性有機溶媒あるいは非極性有機溶媒と極性有機溶媒との混合溶媒の溶液に、レジストのベースポリマー中の金属不純物の当量以上の、水溶性で、錯形成能力のある化合物を添加し、反応を完了させた後、更に、純水で洗浄することにより、レジストのベースポリマー中の金属不純物を低減させることを特徴とするレジストのベースポリマーの精製方法。

IPC (3件)：

G03F 7/38 501 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 501

FI (3件)：

G03F 7/38 501 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 501

Fターム (14件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA19 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB41 ,  2H096AA30 ,  2H096BA20 ,  2H096LA30

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-091120
  
• 特開昭63-126502
  
• 特表平7-502295