ポジ型感光性レジスト組成物およびその用途

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-198434
公開番号（公開出願番号）：特開2004-053617
出願日： 2002年07月08日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】安価な光酸発生剤を使用でき、近紫外露光および弱アルカリ現像で高解像度を示し、スルーホールのある基板にも対応でき、近紫外光で露光して弱アルカリ現像液で現像することにより微細なパターン加工を解像性良く行うことができるポジ型感光性レジスト組成物を提供する。【解決手段】少なくともジクロロアセチル基を1つ有する化合物を酸発生剤として含有していることを特徴とするポジ型感光性レジスト組成物。【化1】(式(1)中、R1、R2、R3、R5は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐の無置換アルキル基、ヒドロキシ基で置換された炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐のアルキル基及びフェニル基から選ばれる置換基を表わし、R4は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐の無置換アルキル基、ヒドロキシ基で置換された炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐のアルキル基、フェニル基及びジクロロアセチル基から選ばれる置換基を表わし、XはO、S、CH2、C(CH3)2、及びC=Oから選ばれる2価の連結基を表わす。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくともジクロロアセチル基を1つ有する化合物を酸発生剤として含有していることを特徴とするポジ型感光性レジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F7/004 , C08F212/14 , C08F220/10 , C08F220/26 , G03F7/039 , H01L21/027 , H05K3/06

FI (7件)：

G03F7/004 503A , C08F212/14 , C08F220/10 , C08F220/26 , G03F7/039 601 , H05K3/06 H , H01L21/30 502R

Fターム (48件)：

2H025AA02 , 2H025AA14 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 4J100AB07R , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09P , 4J100BA02Q , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA04Q , 4J100BA05Q , 4J100BA06Q , 4J100BA31P , 4J100BA31Q , 4J100BA40P , 4J100BA40Q , 4J100BB01P , 4J100BB03P , 4J100BB17P , 4J100BB17Q , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100CA05 , 4J100DA39 , 4J100JA38 , 5E339AB02 , 5E339AC01 , 5E339AD01 , 5E339AE01 , 5E339BC02 , 5E339BD11 , 5E339BE13 , 5E339CC01 , 5E339CD01 , 5E339CE11 , 5E339CF06 , 5E339CF16 , 5E339CF17 , 5E339DD04 , 5E339GG02

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