特許

J-GLOBAL ID：200903054230592070

荷電粒子線露光装置

発明者： 中筋 護
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-095776
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289851
出願日： 1997年04月14日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 電子光学系の収差測定を高精度に行うことができる荷電粒子線露光装置を提供することにある。【解決手段】 電子光学系を通過した荷電粒子線をマーク11,21に照射して電子光学系の収差を測定し、その測定結果に基づいて収差を補正し露光する荷電粒子線露光装置において、マーク11,21は、それぞれ単結晶Siの(110)面を表面とする基板1,2上に長手方向が(110)面の<112>方位である長方形パターンを異方性エッチングにより複数形成したものであり、マーク11のパターンとマーク21のパターンは互いに直交するように構成する。

請求項（抜粋）：

電子光学系を通過した荷電粒子線を基準マークに照射して前記電子光学系の収差を測定し、その測定結果に基づいて前記電子光学系の調整を行いあるいは前記収差を補正し露光する荷電粒子線露光装置において、前記基準マークは、単結晶Siの(110)面を表面とする基板上に長手方向が(110)面の<112>方位である長方形パターンを、その長手方向と直交する方向に異方性エッチングにより複数形成して成ることを特徴とする荷電粒子線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 541 U ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 541 H