特許
J-GLOBAL ID：200903054253331478
電子線描画方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-122699
公開番号（公開出願番号）：特開平8-316131
出願日： 1995年05月22日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：
【要約】【目的】 描画パターン密度に応じて一列内の描画ビーム安定化待ち時間を可変とし、各列でのステージ移動速度変化及び電子線描画偏向量を抑制して、描画精度が向上可能な電子線描画方法及び装置を実現する。【構成】 ステップ102、103、104で整定待ち時間初期値を設定し列単位のデータ並び替えを行ないシュミレーションでの各列内の描画時間を算出する。ステップ105、106、107で各列単位の描画位置移動速度を算出し加速度制限処理しステージ目標移動速度を算出し描画位置移動速度とステージ目標移動速度とから各列各位置での速度偏差を算出する。ステップ108、109で算出速度偏差が最大速度偏差より小かを判定し小でないと待ち時間を増加しステップ104〜108を実行する。速度偏差が最大速度偏差より小ならステップ110に進み次の算出用チップ配列があるかを判定しあればステップ111に進み次のチップ配列指定を行いステップ102に戻る。
請求項（抜粋）：
電子線描画制御手段により電子線発生源からの電子線を偏向制御して試料に照射するとともに、試料を配置する試料台の連続移動を制御して、描画データに基づいた図形を電子線により上記試料に描画する電子線描画方法において、描画データを、描画時における試料台の移動方向にほぼ直行する方向の、所定の電子線描画幅を有する複数の列に分割し、かつ、各列において上記試料台の移動方向に沿った所定の寸法からなる複数の領域に分割し、上記所定の電子線描画幅に分割した各列各領域毎に、描画データ及び所定の電子線の安定化待ち時間に基づいて、電子線の描画移動速度を算出し、上記電子線の描画移動速度の変化を算出して、この移動速度変化が所定の最大移動速度変化より未満か否かを判定し、上記移動速度変化が、上記所定の最大移動速度変化以上である場合には、上記移動速度変化が上記最大移動速度変化未満である条件を満足するまで、上記所定の安定化待ち時間を増加して、上記条件を満足する電子線安定化待ち時間を決定し、決定した上記待ち時間により、描画データを電子線により試料に描画することを特徴とする電子線描画方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 541 D
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 541 L
