特許

J-GLOBAL ID：200903054254975867

強誘電体薄膜形成用塗布溶液

発明者： 森岡 洋 ,  山手 拓 ,  桂木 速人 ,  森 清人
出願人/特許権者： 関東化学株式会社
代理人 (1件)： 葛和 清司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-193332
公開番号（公開出願番号）：特開平11-029328
出願日： 1997年07月04日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：

【要約】【課題】 750°C以下の低温での薄膜形成が可能なタンタル酸ビスマスストロンチウム(SBT)薄膜形成用塗布溶液を提供する。【解決手段】 硝酸ビスマス、有機金属化合物およびジオール化合物を含有することを特徴とする、タンタル酸ビスマスストロンチウム(SBT)薄膜形成用塗布溶液。

請求項（抜粋）：

硝酸ビスマス、有機金属化合物およびジオール化合物を含有することを特徴とする、タンタル酸ビスマスストロンチウム(SBT)薄膜形成用塗布溶液。

IPC (3件)：

C01G 29/00 ,  C09K 3/00 ,  H01B 3/12 312

FI (3件)：

C01G 29/00 ,  C09K 3/00 Z ,  H01B 3/12 312