特許
J-GLOBAL ID：200903054257565317
薄膜磁気ヘッドスライダの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-276251
公開番号（公開出願番号）：特開平8-138223
出願日： 1994年11月10日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】ヘッドスライダの加工方法において、直接的なスライダレール面の形成やスライダ単位の加工を行うことにより、量産性良く、低コストに、安定低浮上するヘッドスライダを提供する。【構成】空気ベアリング面を呈するレールを有する型の磁気ヘッドスライダの製造方法であって、素子形成された基板から切り出されたスライダブロックを研削・ラップする工程と、それを加工用治具に固定する工程と、高エネルギービームの照射により直接的にスライダレール面を形成する工程と、これをスライダチップ切断する工程と、そのチップを加工用治具から脱離する工程と、スライダチップを洗浄する工程と、その被加工面をラップする工程と、その被加工面に保護膜を形成する工程とからなる。
請求項（抜粋）：
レールを有する形の磁気ヘッドスライダの製造方法であって、ヘッド素子が形成された基板から切り出されたスライダブロックの少なくとも浮上面を研削する工程と、高エネルギービームを照射してスライダレール面を加工する工程と、このスライダブロックをスライダチップに切断する工程と、切断されたスライダチップを洗浄する工程と、このスライダチップの浮上面をラップする工程と、スライダ材に保護膜を形成する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/60
, G11B 5/31
, G11B 21/21 101
