特許
J-GLOBAL ID：200903054273907791
複合荷電粒子ビーム加工観察装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-174246
公開番号（公開出願番号）：特開平6-020638
出願日： 1992年07月01日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 試料断面の像のみならず、試料の深さ方向の任意内部表面像,立体像などを高い分解能で観察することを可能とする複合荷電粒子ビーム加工観察装置を実現する。【構成】 記憶回路34には多数の試料断面の情報が記憶される。垂直方向の試料断面の像を観察したい場合には、試料のY方向の位置を指定することにより、記憶回路34からその断面の信号が取り出され、画像メモリー37に転送され、陰極線管40に像が表示される。任意の水平方向の試料面の像を観察したい場合には、記憶回路34に記憶された多数の像信号の内、各2次元走査像信号の指定されたZ位置の信号のみを取り出し、それらの信号を再構築して2次元像信号を作成し、画像メモリー37に転送する。次に、立体像を観察する場合には、記憶回路34に記憶された多数の像信号に基づき立体像の構築を行い、その結果を画像メモリー37に転送する。
請求項（抜粋）：
試料室と、試料室内に配置された試料に対し、イオンビームを照射するためのイオンビーム照射系と、電子ビームを照射するための電子ビーム照射系と、電子ビームを試料上で走査するための走査手段と、電子ビームを試料に照射した結果発生した信号を検出する検出器と、検出器からの信号が供給され、その信号を電子ビームの走査と同期して記憶する記憶手段と、イオンビームを試料の所定領域に照射して試料を一定量削り、その後削った試料部分で電子ビームを走査し、走査に基づく信号を記憶させる一連のステップを多数回繰り返し実行させるための制御手段とを備えた複合荷電粒子ビーム加工観察装置。
IPC (5件)：
H01J 37/28
, H01J 37/30
, H01L 21/302
, H01L 21/66
, G01N 23/22
