アセチレン系モノマー重合膜の形成方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-284889
公開番号（公開出願番号）：特開2001-104773
出願日： 1999年10月05日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：

【要約】【目的】大気開放下で実施でき、しかも堆積速度が大きく、組成の均一性に優れたアセチレン系モノマー重合膜の形成方法を提供すること。【構成】一定の間隔を以て対向する一対の対向電極間に形成される放電部に、アセチレン系モノマーのガスと不活性ガスの混合ガスを大気圧もしくは大気圧近傍圧力下で導入すると共に上記電極間に高周波交流電圧を印可することにより、上記放電部にグロー放電プラズマを発生させて、該プラズマを基体表面に接触させるアセチレン系モノマー重合膜の形成方法であって、上記高周波交流電圧の周波数を5MHz〜500MHzとすることを特徴とするアセチレン系モノマー重合膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

一定の間隔を以て対向する一対の対向電極間に形成される放電部に、アセチレン系モノマーのガスと不活性ガスの混合ガスを大気圧もしくは大気圧近傍圧力下で導入すると共に、上記電極間に高周波交流電圧を印可することにより上記放電部にグロー放電プラズマを発生させて、該プラズマを基体表面に接触させるアセチレン系モノマー重合膜の形成方法であって、上記高周波交流電圧の周波数を5MHz〜500MHzとすることを特徴とするアセチレン系モノマー重合膜の形成方法。

IPC (5件)：

B01J 19/08 , C08F 2/52 , C08F 38/02 , C08J 5/18 CER , C08L 49:00

FI (5件)：

B01J 19/08 H , C08F 2/52 , C08F 38/02 , C08J 5/18 CER , C08L 49:00

Fターム (40件)：

4F071AA38 , 4F071AF37 , 4F071AG03 , 4F071AH12 , 4F071AH19 , 4F071BB12 , 4F071CA01 , 4F071CD05 , 4G075AA24 , 4G075CA14 , 4G075CA16 , 4G075CA47 , 4G075CA63 , 4G075EB01 , 4G075EC21 , 4J011AA01 , 4J011AA03 , 4J011AC04 , 4J011BA01 , 4J011BB01 , 4J011CA01 , 4J011CA02 , 4J011CA03 , 4J011CA05 , 4J011CA08 , 4J011DA06 , 4J011DB22 , 4J011GB02 , 4J011GB08 , 4J011QA44 , 4J011UA06 , 4J011VA03 , 4J011WA02 , 4J011WA10 , 4J100AT02P , 4J100AT05P , 4J100BB07P , 4J100CA01 , 4J100FA22 , 4J100FA27

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-080577
特開平2-080577
特開平2-015171

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