特許

J-GLOBAL ID：200903054277619391

洗浄装置

発明者： 佐藤 薫
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-096090
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260322
出願日： 1996年03月26日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】 ウエハを洗浄ブラシにより洗浄する際に、ブラシが異物を滞留して汚損されることを防止すると共に、洗浄効果を向上させる。【解決手段】 回転するウエハ1上に洗浄ブラシ6を回転させながら接触させてスキャンする。ブラシ6の多数の細毛11は、ブラシ中心部から外周部に向かって長さが短くなるように形成され、多数のブラシ細毛11の先端側は、ブラシ中心部が最も突出して全体的に略円錐状の斜面となるように揃えられている。処理液及び異物を吸引する吸引ノズル12がブラシ中心部に設けられている。ウエハ1上から除去した異物をブラシ細毛11の外に効率良く掃き出すことができる。また、異物を含む洗浄液の吸引によって、ブラシ細毛11の中心部での洗浄液及び異物の滞留を防ぐと同時に、ブラシ細毛11とウエハ1との接触部位における洗浄液の流速を上昇させることができ、洗浄効果を向上させることができる。

請求項（抜粋）：

半導体基板上の異物や汚れ等を洗浄ブラシにより除去する洗浄装置において、前記洗浄ブラシを構成する細毛が、ブラシ中心部が最長でブラシ外周部が最短になるように、ブラシ中心部からブラシ外周部に向かって長さが変化するように形成されていることを特徴とする洗浄装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 341 ,  A46B 7/08 ,  A46B 9/02 ,  A46B 15/00 ,  B08B 1/04

FI (5件)：

H01L 21/304 341 B ,  A46B 7/08 ,  A46B 9/02 ,  A46B 15/00 D ,  B08B 1/04