特許
J-GLOBAL ID：200903054293805316
磁気記録媒体の製造方法及び製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-239423
公開番号（公開出願番号）：特開平9-153215
出願日： 1996年09月10日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：
【要約】【課題】 非磁性支持体にバックコート層を形成するに際して、その形成が容易で、充分な潤滑性が得られるとともに、作業効率の高い磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供しようとするするものである。【解決手段】 非磁性支持体上に磁性層が形成されるとともに、磁性層形成面とは反対側の面にバックコート層が形成される磁気記録媒体の製造方法において、バックコート層をプラズマCVDによって成膜するとともに、このプラズマCVDによる成膜の際に潤滑剤を供給する。かかる製造方法を実施するための製造装置は、プラズマCVDによりバックコート層を成膜する成膜手段と、プラズマCVDによる成膜の際に潤滑剤を供給する潤滑剤供給手段を有する。ここで、プラズマCVDと潤滑剤供給手段とは、交互に複数配置してもよい。
請求項（抜粋）：
非磁性支持体上に磁性層が形成されるとともに、磁性層形成面とは反対側の面にバックコート層が形成される磁気記録媒体の製造方法において、バックコート層をプラズマCVDによって成膜するとともに、このプラズマCVDによる成膜の際に潤滑剤を供給することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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