特許

J-GLOBAL ID：200903054295744977

透明導電膜の製造方法

発明者： 阿相 順一 ,  荒井 芳博
出願人/特許権者： 東燃化学株式会社
代理人 (1件)： 松井 光夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-047108
公開番号（公開出願番号）：特開平6-243740
出願日： 1993年02月15日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：

【要約】【目的】 簡易に低抵抗な透明導電膜を得る方法を提供する。【構成】 基板温度80°C以下でスパッタ成膜することにより基板上にITO膜を設けた後、150〜300°Cの温度で20分間以上熱処理する。

請求項（抜粋）：

基板上に少なくともITO膜が設けられた透明導電膜の製造方法において、基板温度80°C以下でスパッタ成膜することにより基板上にITO膜を設けた後、150〜300°Cの温度で20分間以上熱処理することを特徴とする方法。

IPC (5件)：

H01B 13/00 503 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34 ,  H01L 21/203 ,  H01L 31/04