特許

J-GLOBAL ID：200903054300640565

電子ビーム露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法

発明者： 村木 真人
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-236971
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087206
出願日： 1997年09月02日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 より大きなスループットを達成できるマルチ電子ビーム型露光装置を提供する。【解決手段】 電子ビームを放射する複数の電子源と被露光面に該複数の電子源の像を縮小投影する縮小電子光学系とを有する電子ビーム露光装置において、前記縮小電子光学系の光軸と直交する面内に前記複数の電子源を形成する電子源アレイと、各電子源に対応して、各電子源の中間像を形成し、該中間像が前記縮小電子光学系によって縮小投影される際に発生する収差を予め補正する要素電子光学系を複数有する要素電子光学系アレイとを有する。

請求項（抜粋）：

電子ビームを放射する複数の電子源と被露光面に該複数の電子源の像を縮小投影する縮小電子光学系とを有する電子ビーム露光装置において、前記縮小電子光学系の光軸と直交する面内に前記複数の電子源を形成する電子源アレイと、各電子源に対応して、各電子源の中間像を形成し、該中間像が前記縮小電子光学系によって縮小投影される際に発生する収差を予め補正する要素電子光学系を複数有する要素電子光学系アレイとを有することを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/073 ,  H01J 37/153 ,  H01J 37/305

FI (7件)：

H01L 21/30 541 W ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/073 ,  H01J 37/153 Z ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 B