特許
J-GLOBAL ID：200903054304363116
排ガス浄化用触媒
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-140829
公開番号（公開出願番号）：特開平8-332350
出願日： 1995年06月07日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】【目的】低温活性と高温下における耐久性能を向上させる。【構成】排ガス流の上流側にPdとRhを担持し下流側にPtとRhを担持した排ガス浄化用触媒であって、上流側のPdの担持密度をPdが担持された担体の上流側部分20の体積1リットル当たり7〜20gとした。上流側部分にPdが高密度で担持されていることにより、HC50%浄化温度が350°C前後にまで低下し低温活性が向上する。またPdが高密度で担持されているために高温下における耐久性に優れている。
請求項（抜粋）：
排ガス流の上流側にパラジウムとロジウムを担持し下流側に白金とロジウムを担持した排ガス浄化用触媒であって、上流側のパラジウムの担持密度をパラジウムが担持された担体の上流側部分の体積1リットル当たり7〜20gとしたことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (3件)：
B01D 53/94
, B01D 53/86 ZAB
, B01J 23/46 311
B01D 53/36 104 A
, B01J 23/46 311 A
, B01D 53/36 ZAB
, B01D 53/36 102 A
