特許
J-GLOBAL ID:200903054307645511

ガス測定用オンラインモニター装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-170392
公開番号(公開出願番号):特開2001-351569
出願日: 2000年06月02日
公開日(公表日): 2001年12月21日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】排ガス中の試料を高効率に安定にイオン化し、前記イオンを質量分析計まで高透過率で輸送し、さらに、排ガス中の腐食ガスの侵入を防止し、質量分析計の耐久性を向上せしめることを目的とする。【解決手段】大気圧下にて試料ガスをイオン化し、前記試料ガス中の成分を計測・分析する装置において、前記試料ガスを導入する手段33、34、を具備し、前記試料ガスを導入する手段の一方の面側に前記試料ガスをイオン化する手段10を少なくともひとつ具備し、前記試料ガスを導入する手段のもう一方の面側に、前記イオン化した試料ガスを高真空域に配置した質量分析部80に入射するための段階的に構成した比較的低真空室50、60、70から成る差動排気部の初段部を配置し、前記低真空室の差動排気部の終段部に前記高真空の質量分析部80を配置した。
請求項(抜粋):
試料ガスを導入する手段と、該試料ガスを略大気圧下にてイオン化するイオン化手段と、該イオン化した試料ガス中の成分を分析する質量分析計とを備えた排ガス測定用オンラインモニター装置において、前記イオン化手段は、前記試料ガスを導入する手段の一方の面側に少なくとも一つのイオン化室を有し、かつ、前記試料ガスを導入する手段のもう一方の面側に、前記イオン化した試料ガスを高真空域に配置した質量分析計に入射するため、段階的に構成した多段の低真空室からなる差動排気部の初段部を配置し、該差動排気部の終段部に高真空域の前記質量分析計を配置構成してなることを特徴とするガス測定用オンラインモニター装置。
IPC (7件):
H01J 49/26 ,  G01N 1/00 101 ,  G01N 1/28 ,  G01N 27/62 ,  G01N 27/62 ZAB ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/10
FI (8件):
H01J 49/26 ,  G01N 1/00 101 R ,  G01N 27/62 G ,  G01N 27/62 F ,  G01N 27/62 ZAB V ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/10 ,  G01N 1/28 T
Fターム (11件):
5C038EE01 ,  5C038GG08 ,  5C038GH04 ,  5C038GH08 ,  5C038GH11 ,  5C038GH13 ,  5C038HH02 ,  5C038HH03 ,  5C038HH16 ,  5C038HH30 ,  5C038JJ02
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 排ガスモニタシステム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-133729   出願人:株式会社日立製作所
  • 特開昭59-230244
  • 特開昭59-230244
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