特許

J-GLOBAL ID：200903054312581386

レンチキュラーレンズシートの製造方法およびその装置

発明者： 渡 辺 一十六 ,  山 下 禎 之
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-102319
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292862
出願日： 1999年04月09日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】 レンチキュラーレンズシートとともに透過型スクリーンを構成するフレネルレンズシートに拡散剤が混入される場合やフレネルレンズシートの観察側が集光系として設計される場合であっても透過率(輝度)の低下を招くことがないレンチキュラーレンズシートの製造方法およびその装置を提供する。【解決手段】 入射角度が異なる複数の平行光A,B,Cを露光光線Lとして照射し、フィルム基材21の入光側に設けられた各入光レンズ22を介してフィルム基材21の出光側の表面に形成されたネガ型レジスト層を露光する。露光光線Lは入射角度が±5〜10 ゚程度の平行光(A,C)を含むことが好ましい。このような入射角度の平行光を含む露光光線Lをフィルム基材21に照射した場合には、露光光線Lの集光点が出光側の表面上で複数存在することとなり、ネガ型レジスト層の露光領域を比較的広くとって開口率を上げることができる。

請求項（抜粋）：

入光側に複数の入光レンズが設けられるとともに出光側の表面にレジスト層が形成された基材に対して、入射角度が異なる複数の平行光を露光光線として照射させることにより、前記基材の前記各入光レンズを介して前記レジスト層を露光する工程と、前記レジスト層を現像して前記レジスト層のうち露光領域または未露光領域のレジスト材料を除去することにより、前記基材の出光側の表面のうち前記各入光レンズの集光領域以外の領域に光吸収層を形成する工程とを含むことを特徴とするレンチキュラーレンズシートの製造方法。

IPC (3件)：

G03B 21/62 ,  B29D 11/00 ,  G02B 3/00

FI (3件)：

G03B 21/62 ,  B29D 11/00 ,  G02B 3/00 A

Fターム (14件)：

2H021BA23 ,  2H021BA26 ,  2H021BA29 ,  2H021BA32 ,  4F213AA44 ,  4F213AH74 ,  4F213WA04 ,  4F213WA06 ,  4F213WA53 ,  4F213WA58 ,  4F213WA67 ,  4F213WA86 ,  4F213WA87 ,  4F213WB01