特許

J-GLOBAL ID：200903054319194477

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： 小林 常雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 岡▲崎▼ 信太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-203699
公開番号（公開出願番号）：特開2001-034909
出願日： 1999年07月16日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】 シールドコアと隣接する平坦化層の間の段差を排除するようにした、薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 基板21上に構成された再生用薄膜ヘッド30と、この再生用薄膜ヘッド上に形成された中間コアとしてのシールドコア42と、このシールドコアの周囲に、上面を平坦化するために形成された平坦化層47と、これらシールドコア及び平坦化層の上に構成された記録用薄膜ヘッド40とを含んでいる、薄膜磁気ヘッド20であって、上記シールドコア42の平坦化層47との境界面42aが上向きに傾斜している。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された再生用薄膜ヘッドと、この再生用薄膜ヘッド上に形成された中間コアとしてのシールドコアと、このシールドコアの周囲に、上面を平坦化するために形成された平坦化層と、これらシールドコア及び平坦化層の上に構成された記録用薄膜ヘッドとを含んでいる薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、上記シールドコアをリフトオフプロセスにより形成することにより、この中間コアの平坦化層との境界面を傾斜面としたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/39

FI (3件)：

G11B 5/31 A ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/39

Fターム (12件)：

5D033BA07 ,  5D033BA71 ,  5D033BB43 ,  5D033CA05 ,  5D033DA01 ,  5D033DA03 ,  5D033DA07 ,  5D033DA08 ,  5D034BA18 ,  5D034BA21 ,  5D034BB09 ,  5D034DA07