特許

J-GLOBAL ID：200903054321765759

微粒子膜製造装置

発明者： 矢野 亨治 ,  瀧本 清 ,  貴志 悦朗 ,  河出 一佐哲
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 豊田 善雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-303199
公開番号（公開出願番号）：特開平6-128756
出願日： 1992年10月16日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：

【要約】【目的】 微粒子からなる薄膜の製造装置を提供する。【構成】 ガス分解チャンバ1内に導入された原料ガス2をマイクロ波発生器3により分解して微粒子を生成し、縮小拡大ノズル6を通して生成された微粒子流をフィラメント8でイオン化し、このイオン化された微粒子流を対向電極10で偏向させ、基板12上に所望の粒径の微粒子膜を形成する装置。【効果】 粒径分布が少なく膜面内で均一な物性を有する微粒子膜が得られる。

請求項（抜粋）：

微粒子流を生成する手段と、該微粒子流生成手段により生成された微粒子流中の微粒子をイオン化する手段と、該イオン化手段によりイオン化された微粒子流を偏向するための手段を具備した微粒子膜製造装置。

IPC (2件)：

C23C 26/00 ,  H01L 21/203

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-306557
  
• 特開平2-248036
  
• 特開平4-099267