特許

J-GLOBAL ID：200903054326461340

高純度砂状合成シリカの製造方法

発明者： 田▲邉▼ 康雄 ,  深尾 隆久 ,  遠藤 穂積 ,  大石 昭二
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-228353
公開番号（公開出願番号）：特開平8-091822
出願日： 1994年09月22日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】【目的】【構成】 液相反応により砂状合成シリカを得る際、原料溶液または分散液からゲルを得るゲル化工程に次いで、該ゲルを乾燥し乾燥ゲルとする乾燥工程をゲル化工程の下部で行い、更にその下部で乾燥ゲルを焼成する焼成工程を行うことを特徴とする高純度砂状合成シリカの製造方法。

請求項（抜粋）：

液相反応により砂状合成シリカを得る際、原料溶液または分散液からゲルを得るゲル化工程に次いで、該ゲルを乾燥し乾燥ゲルとする乾燥工程をゲル化工程の下部で行い、更にその下部で乾燥ゲルを焼成する焼成工程を行うことを特徴とする高純度砂状合成シリカの製造方法。

IPC (4件)：

C01B 33/18 ,  C03B 8/02 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06