保護膜形成装置及び保護膜形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-000370
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199056
出願日： 1997年01月06日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：

【要約】【課題】保護層を所定の膜厚に形成するとともに、基板の全体にわたって均一の膜厚で保護層を形成する保護膜形成装置及び保護膜形成方法を提案する。【解決手段】本発明にかかる保護膜形成装置20は、円盤状記録媒体1に保護膜材料を塗布した後、円盤状記録媒体1に対して光を照射することにより保護膜材料を硬化させて保護膜を形成する保護膜形成装置であって、紫外線を照射する光源22と、絞りを開くことにより紫外線を透過し、絞りを閉じることにより紫外線を遮断するシャッタ23とを有し、シャッタ23の絞りの中心が、光照射対象の円盤状記録媒体1の中心の直上とされている。また、保護膜形成方法は、円盤状記録媒体上に保護膜材料を塗布する工程と、光照射して保護膜材料を硬化させる工程とを有し、保護膜硬化工程は、円盤状記録媒体の内周側に光を照射した後、光照射領域を円盤状記録媒体の外周側へと広げていく。

請求項（抜粋）：

円盤状記録媒体に保護膜材料を塗布した後、円盤状記録媒体を回転させながら光を照射することにより保護膜材料を硬化させて保護膜を形成する保護膜形成装置において、円盤状記録媒体に光を照射する光源と、絞りを開くことにより光源からの光を透過し、絞りを閉じることにより光源からの光を遮断するシャッタとを有し、シャッタの絞りの中心が、光照射対象の円盤状記録媒体の中心の直上とされていることを特徴とする保護膜形成装置。

IPC (3件)：

G11B 7/26 531 , G11B 5/84 , G11B 11/10 541

FI (3件)：

G11B 7/26 531 , G11B 5/84 B , G11B 11/10 541 F

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