特許
J-GLOBAL ID：200903054337334260
露光マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
土屋 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-042306
公開番号（公開出願番号）：特開平5-216207
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】シャープなレジストパターンを形成することができて、パターン転写精度及び解像度が高い露光マスクを提供する。【構成】マスク基板11に遮光膜としてのクロム膜12がパターニングされており、このクロム膜12に設けられている開口である光透過領域13がマトリックス状に配列されている。互いに隣接している光透過領域13には、透過させる直線偏光の偏光方向が互いに直交している偏光子14、15が交互に設けられている。このため、光源から射出された光のうちで偏光子14を透過した光と偏光子15を透過した光とは、偏光方向が互いに直交している直線偏光になっており、干渉し合わない。従って、偏光子14、15を透過した光の像面上における強度分布は、本来のパターンのピーク以外には極大部を有していない。
請求項（抜粋）：
光透過領域がマトリックス状に配列されている露光マスクにおいて、互いに隣接している前記光透過領域に、透過させる直線偏光の偏光方向が互いに直交している偏光子が設けられている露光マスク。
IPC (2件)：
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