特許
J-GLOBAL ID：200903054342570435

洗浄方法、半導体装置の製造方法及びアクティブマトリクス型表示装置の製造方法

発明者：
速水 直哉

速水 直哉 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-087197
公開番号（公開出願番号）：特開2002-289565
出願日： 2001年03月26日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：
【要約】【課題】 被処理体の表面に付着したパーティィクルの除去効率を低下させることなく、被処理体である半導体、液晶ディスプレイ、電子デバイス等に形成された微細パターンに対してダメージを与えない洗浄方法、半導体装置の製造方法及びアクティブマトリクス型表示装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 超音波を印加した洗浄液4を被洗浄体1に供給して、前記被洗浄体1を洗浄する超音波洗浄方法において、前記洗浄液4に対して前記超音波を所定間隔でON-OFFを繰り返して印加する。
請求項（抜粋）：
第1の超音波を照射して被洗浄物を洗浄する第1の工程と、第2の超音波を照射して被洗浄物を洗浄する第2の工程とを具備する洗浄方法ことを特徴とする超音波洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 642 ,  B08B 3/12 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/30 338
FI (4件)：
H01L 21/304 642 E ,  B08B 3/12 B ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/30 338
Fターム (19件)：
2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201BB21 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094FB12 ,  5C094FB14 ,  5C094GB10 ,  5C094JA01 ,  5C094JA08 ,  5C094JA20
引用特許：
審査官引用 (3件)

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