特許
J-GLOBAL ID：200903054353334245

有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、及び有機エレクトロルミネッセンス装置

発明者：
林 建二

林 建二 について

, 
野澤 陵一

野澤 陵一 について

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山内 幸夫

山内 幸夫 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-209534
公開番号（公開出願番号）：特開2006-147528
出願日： 2005年07月20日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】 十分な発光特性や発光寿命が得られ、非発光領域の発生を抑制できる有機EL装置の製造方法、有機EL装置、及び電子機器を提供する。【解決手段】 基板20上に、複数の第1電極と、第1電極の形成位置に対応して配置される発光機能層と、発光機能層を覆う第2電極と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、第2電極を覆うと共に緩衝層210を形成する緩衝層形成工程と、当該緩衝層210を覆うガスバリア層30を形成する工程とを含み、緩衝層形成工程は、モノマー/オリゴマー材料と硬化剤とを有する塗布材料を、真空雰囲気下において溶媒を用いずに塗布する塗布工程と、塗布材料を硬化させて緩衝層を形成する熱硬化工程とを含むことを特徴とする。【選択図】 図11
請求項（抜粋）：
基板上に、複数の第1電極と、前記第1電極の形成位置に対応して配置される発光機能層と、前記発光機能層を覆う第2電極と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、 前記第2電極を覆うと共に緩衝層を形成する緩衝層形成工程と、当該緩衝層を覆うガスバリア層を形成する工程とを含み、 前記緩衝層形成工程は、 モノマー/オリゴマー材料と硬化剤とを有する塗布材料を、真空雰囲気下において溶媒を用いずに塗布する塗布工程と、 前記塗布材料を硬化させて前記緩衝層を形成する熱硬化工程と、を含む、 ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/04 ,  H01L 51/50
FI (3件)：
H05B33/10 ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A
Fターム (8件)：
3K007AB11 ,  3K007BA06 ,  3K007BB02 ,  3K007DB03 ,  3K007EA00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  3K007FA03
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (11件)
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