特許
J-GLOBAL ID：200903054367198425
リソグラフィ装置において使用するための位置検出システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-386381
公開番号（公開出願番号）：特開2001-217190
出願日： 2000年12月20日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：
【要約】【課題】 基準フレームに関する可動物体の好ましくはサブマイクロメータの精度で反復可能な参照を可能にする参照システムを提供する。【解決手段】 位置検出装置は、隔離された基準フレームの上に取り付けられた放射源と、前記放射源の近くに取り付けられた二次元検出器とを含む。位置が検出されるべき物体の上には、入射光経路に平行であるがこれから変位している戻り経路に沿って、放射源から放射される光を反射するように、再帰反射器が取り付けられている。変位の量は物体の位置に依存し、二次元検出器によって測定される。3つのこのような装置を1つのシステムに組み合わせて、全6自由度で物体の位置を測定する。
請求項（抜粋）：
放射の投影ビームを供給するための照射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化することができるパターン化手段を保持するための第1物体テーブルと、基板を保持するための第2物体テーブルと、基板の目標部分の上にパターン化されたビームを結像するための投影システムと、基準フレームとを含むリソグラフィ投影装置において、前記基準フレームの上に取り付けられた放射源と、前記基準フレームの1つの固定位置に取り付けられた二次元放射検出器と、前記放射源によって前記放射検出器に向かって放射された放射を反射するように、前記基準フレームに対して移動可能な前記物体テーブルの1つに取り付けられた鏡映デバイスとを含む位置検出デバイスを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G01B 15/00
, G03F 7/22
, G03F 9/00
G01B 11/00 H
, G01B 15/00 A
, G03F 7/22 H
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 503 A
