特許

J-GLOBAL ID：200903054376355975

3次元形状計測装置

発明者： 服部 眞一郎 ,  菅野 正秀 ,  松浦 伸之 ,  浪井 泰志 ,  白岩 勝 ,  西岡 公彦 ,  楠元 晃 ,  正治 秀幸
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 伊藤 進
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-219319
公開番号（公開出願番号）：特開平9-061132
出願日： 1995年08月28日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【課題】 同時に多くの種類の測定光(線状光)を被写体に投影することで、計測スピードと分解能の向上が同時に実現する。【解決手段】 n本の線状光を測定光投影用レンズによって被写体上に投影し、被写体像は、内視鏡6の接眼レンズ17及び測定ヘッド11の補助レンズ30を通り、ハーフプリズム31によって二分割された上で、一方は測定光位置検知ファイバ33(1)〜33(m)の端面の位置に結像する。測定光位置検知ファイバ33(1)〜33(m)の端面の位置に結像した被写体上の線状光像をファイバ走査装置36によって測定光位置検知ファイバ33(1)〜33(m)が振動駆動して直線状に並んだ測定光位置検知ファイバ33(1)〜33(m)によって線走査し、信号処理回路35で信号処理して3次元計測を行う。

請求項（抜粋）：

変調周波数が互いに異なる複数の測定光を発生させる測定光発生手段と、前記複数の測定光を空間的に分離して被写体の被測定面に投影する測定光投影手段と、前記被測定面からの反射光の空間分布を検出する検出手段と、前記検出手段にて検出された反射光の空間分布について、前記変調周波数に基づいて前記複数の測定光に対する各反射成分を識別する反射光分析手段と、前記反射光分析手段により識別された各反射成分の空間位置から、前記被測定面内の各点の前記測定光投影手段からの距離を算出する距離算出手段とを備えたことを特徴とする3次元形状計測装置。

IPC (3件)：

G01B 11/24 ,  A61B 1/00 300 ,  G02B 23/24

FI (3件)：

G01B 11/24 K ,  A61B 1/00 300 D ,  G02B 23/24 Z