加熱装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-080843
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268624
出願日： 2004年03月19日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】マイクロ波を用いて、試料を効率よく、均一に加熱することができる加熱装置を提供する。【解決手段】本発明の加熱装置10は、試料Wを加熱処理する容器11と、該容器11内に配設されて試料Wを載置する一主面を備えた試料台17と、該試料台17の他の一主面側かつ前記容器11の外側に設けられたマイクロ波放射部25と、前記容器11外に設けられたマイクロ波発生器21と、一方の端部が前記マイクロ波発生器21に接続され、かつ、他方の端部が前記マイクロ波放射部25に接続されている導波管24とを備え、前記マイクロ波放射部25は、厚み方向に貫通する複数の貫通孔26が形成された板状体27を備えることにより、試料台17が均一に加熱され、その結果、試料台17に載置された試料Wが効率よく、均一に加熱される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マイクロ波を用いて試料を加熱する加熱装置であって、試料を加熱処理する容器と、該容器内に配設されて試料を載置する一主面を備えた試料台と、該試料台の他の一主面側かつ前記容器の外側に設けられたマイクロ波放射部と、前記容器外に設けられたマイクロ波発生器と、一方の端部が前記マイクロ波発生器に接続され、かつ、他方の端部が前記マイクロ波放射部に接続されている導波管とを備え、前記マイクロ波放射部は、厚み方向に貫通する複数の貫通孔が形成された板状体を備えていることを特徴とする加熱装置。

IPC (5件)：

H01L21/268 , H01L21/68 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B6/74

FI (6件)：

H01L21/268 Z , H01L21/68 N , H05B6/70 E , H05B6/72 D , H05B6/74 A , H05B6/74 E

Fターム (13件)：

3K090AA01 , 3K090AB13 , 3K090AB20 , 3K090BA01 , 3K090BB01 , 3K090CA02 , 3K090CA09 , 3K090DA03 , 3K090EA09 , 5F031CA02 , 5F031HA02 , 5F031MA30 , 5F031PA11

引用特許：

出願人引用 (1件)

マイクロ波加熱型の半導体製造用サセプタおよび半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-251929 出願人：東芝セラミックス株式会社

審査官引用 (7件)

マイクロ波加熱型の半導体製造用サセプタおよび半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-251929 出願人：東芝セラミックス株式会社
特開昭51-076650
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-248767 出願人：東京エレクトロン株式会社

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