特許

J-GLOBAL ID：200903054401810321

シルセスキオキサン化合物の製造方法

発明者： 齋藤 秀夫 ,  池田 正紀
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-212991
公開番号（公開出願番号）：特開2004-051847
出願日： 2002年07月22日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】簡単な操作で、高収率で籠状シルセスキオキサン及び/又は籠状シルセスキオキサンの部分開裂構造体を製造する方法を提供する。【解決手段】本発明は、籠状シルセスキオキサンの部分開裂構造体であるトリシラノール化合物とアルコキシシランを、ルイス塩基存在下で反応することによって、高収率でかつ高純度で籠状シルセスキオキサン及び/又は籠状シルセスキオキサンの部分開裂構造体が得られる。【選択図】 選択図なし

請求項（抜粋）：

一般式(A)で表される籠状シルセスキオキサンの部分開裂構造体と一般式(B)で表されるアルコキシシランをルイス塩基存在下で反応させて製造することを特徴とする籠状シルセスキオキサン及び/又は籠状シルセスキオキサンの部分開裂構造体を製造する方法。 (RSiO3/2)n(RSiO2H)3 (A) R1mSi(OR2)4-m (B) (RSiO3/2)n+3(R1SiO3/2) (C) (RSiO3/2)n+h(RSiO2H)3-h(R1mSiO(4-m)/2)k (D) (RSiO3/2)n+3(R12SiO) (R12SiO3/2H) (E) (一般式(A)〜(E)において、Rは水素原子、炭素原子数1から20の置換又は非置換の炭化水素基又はケイ素原子数1から10のケイ素原子含有基から選ばれ、複数のRは同一でも異なっていても良い。R1はRと同じ群から選ばれる基であり、複数のR1は同じでも異なっていても良い。OR2は炭素原子数1から6のアルコキシ基である。nは2から10の整数で、mは1から3の整数である。ただし、一般式(D)においては、m=2又は3であり、m=2の場合にはk=1、h=2であり、m=3の場合にはk=h=1から3の整数である。)

IPC (1件)：

C08G77/08

FI (1件)：

C08G77/08

Fターム (3件)：

4J035BA14 ,  4J035CA051 ,  4J035EB03

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 籠状シルセスキオキサン類含有ポリカーボネート系樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-133313   出願人：旭化成株式会社