特許

J-GLOBAL ID：200903054407607811

溶液の質をモニターする方法

発明者： ヨウ サミュエル オベング
出願人/特許権者： エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
代理人 (1件)： 三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-325407
公開番号（公開出願番号）：特開平8-241882
出願日： 1995年12月14日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【課題】有機溶媒パフォーマンスの有効なモニタリング及びマイクロエレクトロニクス製造における有機物質除去のための方法及び機器を提供する。【解決手段】本発明の集積回路製造方法において、フォトレジストを除去するためやハロゲンエッチングの後のクリンアップのために、半導体製造で用いられる溶媒の質は溶媒の導電率を測ることによりモニターされる。

請求項（抜粋）：

a)基板(17)を有機溶媒(13)にさらすステップと、b)前記溶媒(13)の導電率を測るステップとからなり、前記導電率が所定値に達するときに、前記の前記有機溶媒に前記基板をさらすことを終結することを特徴とする集積回路製造方法。

IPC (4件)：

H01L 21/306 ,  G01N 27/10 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/306 U ,  G01N 27/10 ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/302 N