特許
J-GLOBAL ID:200903054408224487

洗浄剤組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋元 輝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-167322
公開番号(公開出願番号):特開平7-003294
出願日: 1993年06月15日
公開日(公表日): 1995年01月06日
要約:
【要約】【目的】 家庭用電化製品、電子、通信機器、電機分野における金属の加工部品、機構部品、精密部品などに付着した油類、例えば加工油、切削油、圧延油、防錆油、引抜油、またプリント基板やハイブリッドICの半田付け後に残った半田フラックス残渣、半導体部品(ウエハなど)に付着したレジスト、ワックスなどの洗浄を効果的に行うことができる安全性が高くかつ経済的な洗浄剤組成物を開発する。【構成】 A)炭素数3以上のアルコール溶剤、B)炭化水素溶剤およびC)塩基性物質として第4級アンモニウム塩基の3成分からなることを特徴とする洗浄剤組成物により目的を達成できる。
請求項(抜粋):
少なくともA)炭素数3以上のアルコール溶剤、B)炭化水素溶剤およびC)塩基性物質として第4級アンモニウム塩基の3成分からなることを特徴とする洗浄剤組成物。
IPC (6件):
C11D 7/60 ,  H01L 21/304 341 ,  H05K 3/26 ,  C11D 7:24 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32

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