特許

J-GLOBAL ID：200903054414640506

紫外線処理装置

発明者： 長谷川 豊 ,  佐竹 久和 ,  細谷 浩二
出願人/特許権者： 日本電池株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-017909
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199857
出願日： 1997年01月14日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：

【要約】【課題】 従来のオゾン散布機構においてはオゾンを均一に流出させることが困難であることや、オゾン濃度分布が不均一となり均一なレジスト剥離が難しいという問題があった。【解決手段】 紫外線とオゾンの作用によりレジスト等の有機化合物被膜を分解、除去する紫外線処理装置において、ランプハウス内にスリット状の開口部を有するオゾン散布ノズルを1個以上設置し、前記ノズルと交差するライン上に吸気孔を設置する。

請求項（抜粋）：

紫外線とオゾンの作用によりレジスト等の有機化合物被膜を分解、除去する紫外線処理装置において、ランプハウス内にスリット状の開口部を有するオゾン散布ノズルを1個以上設置し、前記ノズルと交差するライン上に吸気孔を設置したことを特徴とする紫外線処理装置。