特許
J-GLOBAL ID:200903054416626977
低刺激性皮膚化粧料
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-021471
公開番号(公開出願番号):特開2001-213755
出願日: 2000年01月31日
公開日(公表日): 2001年08月07日
要約:
【要約】【課題】界面活性剤、有機酸、防腐剤等の皮膚に対する刺激性を緩和した皮膚化粧料を提供する。【解決手段】ヤエヤマアオキの抽出物、粉砕物または圧搾物を含有することを特徴とする低刺激性皮膚化粧料。
請求項(抜粋):
ヤエヤマアオキの抽出物、粉砕物または圧搾物を含有することを特徴とする低刺激性皮膚化粧料。
IPC (5件):
A61K 7/48
, A61K 7/00
, A61K 35/78
, A61P 23/02
, A61P 29/00
FI (5件):
A61K 7/48
, A61K 7/00 K
, A61K 35/78 C
, A61P 23/02
, A61P 29/00
Fターム (24件):
4C083AA111
, 4C083AA112
, 4C083AC122
, 4C083AC172
, 4C083AC302
, 4C083AC532
, 4C083AD042
, 4C083CC02
, 4C083DD23
, 4C083EE12
, 4C088AB14
, 4C088AC03
, 4C088AC04
, 4C088AC05
, 4C088AC11
, 4C088BA07
, 4C088BA08
, 4C088CA04
, 4C088CA09
, 4C088MA17
, 4C088MA63
, 4C088NA14
, 4C088ZA08
, 4C088ZA89
前のページに戻る