特許
J-GLOBAL ID：200903054421723441
高分子フィルムの厚み測定方法および測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
遠山 勉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-243959
公開番号（公開出願番号）：特開2000-074634
出願日： 1998年08月28日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：
【要約】【課題】 装置自体を大型化せずに高速にスキャンを行いながらも高分子フィルムの厚みを精度良く測定できるとともに、長時間に渡って高分子フィルムの厚みを精度良く測定できるようにすること。【解決手段】 高分子フィルムの吸収波長帯にある波長λ1と吸収波長帯の外にある波長λ2とを含む近赤外光を出す投光用光ファイバ3Bと投光用光ファイバ3Bから出る前記近赤外光を受ける受光用光ファイバ3Eとの間に高分子フィルム3Cを配した状態で投光用光ファイバ3Bから高分子フィルム3Cに投光した場合に前記高分子フィルム3Cを透過する前記近赤外光の透過率から前記高分子フィルム3Cの厚みを測定する。そして、受光用光ファイバ3Eが受光した光を光強度検出器7D,7Eに導き、これらの光強度検出器7D,7Eによって検出した前記波長λ1の光強度と前記波長λ2の光強度との比を求めて、その比から高分子フィルムの厚みを算出する。
請求項（抜粋）：
高分子フィルム3Cに照射した光の透過率から前記高分子フィルム3Cの厚み測定を行う高分子フィルムの厚み測定方法において、前記高分子フィルム3Cの吸収波長帯にある波長λ1と前記吸収波長帯から外れてある波長λ2とを含む近赤外光を投光用光ファイバ3Bで前記高分子フィルム3Cに照射し、このときに前記高分子フィルム3Cを透過する前記近赤外光を受光用光ファイバ3Eで受光し、この受光用光ファイバ3Eが受光した前記近赤外光に含まれる前記波長λ1および前記波長λ2の各透過光の透過率T1およびT2を測定しかつこれら両透過率T1およびT2の比を求め、この求めた比から前記高分子フィルムの厚みを算出することを特徴とする高分子フィルムの厚み測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/06 Z
, G01N 21/35 Z
2F065AA30
, 2F065CC02
, 2F065DD02
, 2F065DD06
, 2F065FF46
, 2F065GG02
, 2F065HH15
, 2F065JJ15
, 2F065LL02
, 2F065LL12
, 2F065LL22
, 2F065LL46
, 2F065MM14
, 2F065MM24
, 2F065MM28
, 2G059AA03
, 2G059AA05
, 2G059BB15
, 2G059CC20
, 2G059DD12
, 2G059EE01
, 2G059GG10
, 2G059HH01
, 2G059JJ02
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ17
, 2G059MM01
