投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-355966
公開番号（公開出願番号）：特開平6-188168
出願日： 1992年12月18日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】投影面内の照度分布の均一化を図り、高解像度の投影パターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法を得ること。【構成】光源1からの光束で照明した第1物体R面上のパターンを投影光学系6により第2物体面上に投影露光する際、該光源と該第2物体W面との間の光路中に所定領域の光束の通過面にコーティングを施した光学素子により密閉された空間11を形成し、該空間内の湿度を制御する湿度制御手段101を用いて制御することにより、該第2物体面上の照度分布を調整していること。

請求項（抜粋）：

光源からの光束で照明した第1物体面上のパターンを投影光学系により第2物体面上に投影露光する際、該光源と該第2物体面との間の光路中に所定領域の光束の通過面にコーティングを施した光学素子により密閉された空間を形成し、該空間内の湿度を制御する湿度制御手段を用いて制御することにより、該第2物体面上の照度分布を調整していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 311 S

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