特許

J-GLOBAL ID：200903054448240990

電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物

発明者： 青合 利明 ,  阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-267329
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072483
出願日： 2000年09月04日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上を目指すものであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)電子線又はX線により、酸を発生し得る基を有する繰り返し単位を構成成分として含む樹脂を含有する、電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)電子線又はX線により、酸を発生し得る基を有する繰り返し単位を構成成分として含む樹脂を含有する、電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/56 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/56 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (71件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF00 ,  2H025BF23 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC101 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002EB106 ,  4J002ED057 ,  4J002EE037 ,  4J002EH127 ,  4J002EL097 ,  4J002EN028 ,  4J002ER008 ,  4J002ER028 ,  4J002ES006 ,  4J002EU048 ,  4J002EU118 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU238 ,  4J002EV047 ,  4J002EV207 ,  4J002EV227 ,  4J002EV256 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002FD208 ,  4J002FD310 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM21P ,  4J100AM21Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA22Q ,  4J100BA41P ,  4J100BA58P ,  4J100BB01P ,  4J100BB01Q ,  4J100BB03P ,  4J100BB12P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC48P ,  4J100BC49P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC65P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38