特許
J-GLOBAL ID：200903054478981390
制御されたラジカル重合によって造られる界面活性ブロックコポリマー
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
倉内 基弘
, 風間 弘志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-587483
公開番号（公開出願番号）：特表2005-503452
出願日： 2002年04月19日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：
発明は、リビング又は制御方法と呼ばれる調製方法によって調製される、親水性ブロック少なくとも1つ及び疎水性ブロック少なくとも1つを含む界面活性剤ブロックを有し、数平均分子質量1000〜50000、好ましくは2000〜20000、なお一層好ましくは4000〜16000、30°Cよりも低い、好ましくは25°Cよりも低くかつ-100°Cよりも高い疎水性ブロックのガラス転移温度、脱ミネラル水中濃度10-4モル/l以下で測定して60ミリニュートン/メートル(mN/m)よりも小さい、好ましくは50mN/mよりも小さい表面張力を有するコポリマーに関する。コポリマーは、特に洗浄剤、ペイント、接着剤及び建築材料において有用である。
請求項（抜粋）：
移動剤を使用する「リビング」調製プロセスによって調製される、親水性ブロック少なくとも1つ及び疎水性ブロック少なくとも1つを含み、下記:
数平均分子質量1000〜50000、好ましくは2000〜20000、なお一層好ましくは4000〜16000、
30°Cよりも低い、好ましくは25°Cよりも低くかつ-100°Cよりも高い疎水性ブロックのガラス転移温度、及び
20°Cかつ大気下で脱ミネラル水中濃度10-4モル/l以下で測定して60ミリニュートン/メートル(mN/m)よりも小さい、好ましくは50mN/mよりも小さい表面張力
を示す界面活性ブロックコポリマー。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (18件)：
4H003EB28
, 4J011AA05
, 4J011NA26
, 4J011NB06
, 4J011NC02
, 4J026HA11
, 4J026HA12
, 4J026HA17
, 4J026HA22
, 4J026HA32
, 4J026HA39
, 4J026HA48
, 4J026HB10
, 4J026HB11
, 4J026HB22
, 4J026HB32
, 4J026HB45
, 4J026HE01
