特許

J-GLOBAL ID：200903054488015123

汚れ付着防止方法,洗浄方法およびその容器

発明者： 新田 三知代 ,  芳賀 良一 ,  中野 隆盛 ,  森 利克
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-263863
公開番号（公開出願番号）：特開平9-105736
出願日： 1995年10月12日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：

【要約】【課題】厳重な洗浄が要求される医薬品,化粧品および食品の製造設備の洗浄で、汚れの残存の発生を即座に検知することが可能な洗浄方法および汚れの付着を抑制する方法とそれらを実現する装置を提供する。【解決手段】洗浄対象物内壁に少なくとも一組の薄膜電極1Aを設置し、電極相互間の電位および/または電気容量の変化を測定し、その結果を正常な洗浄が実施された時の結果と比較して洗浄異常発生の有無を判定する。さらに、電極相互間の電位および/または電気容量を一定に制御することにより汚れの付着を防止する。

請求項（抜粋）：

配管,弁,タンクを含む容器の内部を前記容器を分解することなく洗浄する方法において、前記容器の内壁面に少なくとも一組の薄膜電極を設置し、前記薄膜電極の電位または電気容量の変化パターンから前記薄膜電極の表面への汚れの付着状態を監視し、汚れの有無を検知する工程を有することを特徴とする洗浄方法。

IPC (3件)：

G01N 27/416 ,  B08B 9/08 ,  G01N 27/38

FI (3件)：

G01N 27/46 341 M ,  B08B 9/08 ,  G01N 27/38