特許

J-GLOBAL ID：200903054493527760

リソグラフィ現像エンドポイント判定方法

発明者： ロナルド・アンソニー・デラガルディア ,  ジョン・レスター・モーア、4世 ,  デビッド・アール・シーガー
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 頓宮 孝一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-041211
公開番号（公開出願番号）：特開平6-020939
出願日： 1993年03月02日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：

【要約】【目的】 レジスト現像時にテスト領域を光学的に検査することによって、X線で露光されたレジストの現像エンドポイントを判定する方法を提供する。【構成】 X線50を複数の異なるレベルで減衰させる減衰器を、テスト・フィールド44に含むマスク40を通してレジスト20のテスト領域36をX線露光する。現像ステップの間に顕微鏡を通してレジスト・テスト領域36のパターンを視覚的に観測する。テスト領域位置は各々同時に異なる放射量を受けているため、現像時間に応じて変化するテスト領域パターンが形成される。変化するテスト領域パターンが、所望の現像エンドポイントに関連づけられた既知のパターンに一致するとき、ワークが現像ステップから除外される。

請求項（抜粋）：

犠牲コーティング物質(SCM)の現像エンドポイントを判定する方法であって、a.放射減衰器を持つマスクに放射線を通過させることによって、レベルの異なる放射線をSCM上の3つ以上の位置に同時に照射するステップと、b.レジストを現像するステップと、c.現像時にSCMの特定の位置のパターン変化を観測するステップと、d.所望の現像エンドポイントに対応するパターンが現われた時に現像を止めるステップと、を含むエンドポイント判定法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

H01L 21/30 361 L ,  H01L 21/30 331 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭58-119528