特許

J-GLOBAL ID：200903054507212660

シクロトリシロキサン及びその製造方法

発明者： 菅生 道博 ,  青木 寿
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-199012
公開番号（公開出願番号）：特開平9-025283
出願日： 1995年07月12日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：

【要約】【課題】 低温特性に優れたシリコーンオイルを合成するための出発原料として有用であり、低温特性に優れたグリース、シーリング材等を得ることができる新規なシクロトリシロキサンを提供する。【解決手段】 下記一般式(1):【化1】(式中、R1 は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基又は(メタ)アクリロイルオキシプロピル基であり、R2 はメチル基又はフェニル基である)で表されるシクロトリシロキサン。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1):【化1】(式中、R1 は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基又は(メタ)アクリロイルオキシプロピル基であり、R2 はメチル基又はフェニル基である)で表されるシクロトリシロキサン。