特許

J-GLOBAL ID：200903054509538083

レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法

発明者： 長野 英明 ,  中 昭夫
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-308587
公開番号（公開出願番号）：特開2000-131847
出願日： 1998年10月29日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】 短波長の放射線、特にArFエキシマレーザを用いた場合でもレジスト膜内への放射線の透過が可能であり、かつ基板への密着性が高く、感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性に優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】 レジスト組成物は、一般式(1)【化15】(式中、R1 は水素原子、脱離後オレフィンとなる基または脂環式基を表す)で表される構造単位および/または一般式(2)【化16】(式中、R2 は脱離後オレフィンとなる基または脂環式基を表し、R3 は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、脱離後オレフィンとなる基または脂環式基を表す)で表される構造単位を有するアクリル酸系重合体からなる放射線感光材料と放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、R1 は水素原子、脱離後オレフィンとなる基または脂環式基を表す)で表される構造単位および/または一般式(2)【化2】(式中、R2 は脱離後オレフィンとなる基または脂環式基を表し、R3 は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、脱離後オレフィンとなる基または脂環式基を表す)で表される構造単位を有するアクリル酸系重合体からなる放射線感光材料と、放射線の照射により酸を発生する化合物とを含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45